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把電路「印」到晶圓上的核心技術，以及 EUV 的門檻。
光、光罩與光阻的三方合作，是晶片圖案的源頭。
閱讀 →13.5 奈米波長的工程奇蹟，與它造就的產業壟斷格局。
閱讀 →在鏡頭和晶圓之間加一層水，竟然就能刻出更細的線。
閱讀 →一次印不夠細，那就印好幾次——化整為零的微影智慧。
閱讀 →用太陽表面般的電漿產生極紫外光，刻出更小的電晶體。
閱讀 →電路圖的「母版」，與保護它的一層超薄防塵罩。
閱讀 →不靠光學投影，而是像蓋印章一樣把電路圖案壓進晶圓。
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